日本の制度・政策

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特許活用ガイド

2026年最新|日本の意匠制度3大改正点|画像・建築・内装の保護要件

2020年改正で拡大した日本の意匠制度を2026年最新情報で解説。①画像デザイン ②建築物 ③内装デザインの3つの新保護対象について、出願要件・登録事例・戦略ポイントを特許庁公式情報ベースで紹介。デザイン経営を進める企業の知財担当者必読の実務ガイドです。

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